안압 강하제

专利标题： 안압 강하제
专利标题（英）：KR950002760A - IOP-lowering agents
申请号：KR1019940015606 申请日：1994-06-30
公开(公告)号：KR1019950002760A 公开(公告)日：1995-02-16
发明人： 오가와다까히로 , 데구찌다까아끼 , 구보게이지
申请人： 센주 세이야꾸 가부시키가이샤
申请人地址： 일본 오사까후 오사까시 쥬오꾸 히라노마치 *쵸메 *방 *고
专利权人： 센주 세이야꾸 가부시키가이샤
当前专利权人： 센주 세이야꾸 가부시키가이샤
当前专利权人地址： 일본 오사까후 오사까시 쥬오꾸 히라노마치 *쵸메 *방 *고
代理人： 특허법인코리아나; 이준구
优先权： JP93-164847 1993-07-02
主分类号： A61K31/415
IPC分类号： A61K31/415

摘要：

하기 일반식으로 나타낸 화합물 또는 그의 약제학적 허용가능염을 함유함을 특징으로 하는 안압 강하제.

(상기 식에서, R¹수소 또는 헤테로 원자를 통해 결합할 수 있는 임의로 치환된 탄화수소 잔기를 나타내고 ; R²는 수소 또는 치환체를 가질 수 있는 탄화수소 잔기를 나타내고 ; R³은 음이온을 형성할 수 있는 기 또는 이것으로 변화할 수 있는 기를 나타내고 ; X는 인접한 페닐렌기 및 페닐기 사이의 선형 부분으로서 2개의 벤젠 고리 사이의 공유결합이거나 원자 1 또는 2개의 사슬 길이를 갖는 스페이서이며 ; n은 1 또는 2를 나타내며 ; 고리 A는 COOR²로 나타낸 기 이외에 1 또는 2개의 임의의 치환체를 갖는 벤젠 고리이다)

摘要（英）：

To IOP lowering agent which is characterized by containing a compound or a salt pharmaceutically acceptable represented by Formula. (It represents a hydrocarbon residue optionally substituted which may be bonded via the above formula, R¹ hydrogen or a hetero atom; R² represents a hydrocarbon residue which may have hydrogen or a substituent; R³ is transformed into group or which can form an anion represents a group capable of; X is a spacer having a covalent bond, or atoms with one or two chain lengths between a linear portion between the adjoining phenylene group and phenyl group the two benzene ring; n represents 1 or 2; the ring a in addition to the group represented by COOR² benzene ring having 1 or 2 optional substituents)

Espacenet

A	人类生活必需
--A61	医学或兽医学；卫生学
----A61K	医用、牙科用或梳妆用的配制品
------A61K31/00	含有机有效成分的医药配制品
--------A61K31/33	.杂环化合物
----------A61K31/335	..仅有氧作为环杂原子的，例如制霉色基素
------------A61K31/40	...有仅以1个氮作为环杂原子的五元环的，例如舒必利、琥珀酰亚胺、托尔米丁、甲氧吡丁苯
--------------A61K31/415	....1,2二唑

发明公开 KR1019950002760A 안압 강하제 无效 - Withdrawn

基本信息:

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IPC结构图谱:

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