基本信息:
- 专利标题： 감광성 수지 조성물 및 이 조성물 사용한 패턴 형성 방법
- 专利标题（英）：KR950001419A - A pattern forming method using the photosensitive resin composition and the composition
- 专利标题（中）：使用该组合物形成图案的光敏树脂组合物和方法
- 申请号：KR1019940014734 申请日：1994-06-25
- 公开(公告)号：KR1019950001419A 公开(公告)日：1995-01-03
- 发明人： 미와다까오 , 오까베요시아끼 , 이시다미나 , 다까하시아끼오 , 누마따순이찌
- 申请人： 가부시끼가이샤 히다치 세이사꾸쇼 , 히타치가세이가부시끼가이샤
- 申请人地址： *-*, Marunouchi *-chome, Chiyoda-ku, Tokyo, Japan
- 专利权人： 가부시끼가이샤 히다치 세이사꾸쇼,히타치가세이가부시끼가이샤
- 当前专利权人： 가부시끼가이샤 히다치 세이사꾸쇼,히타치가세이가부시끼가이샤
- 当前专利权人地址： *-*, Marunouchi *-chome, Chiyoda-ku, Tokyo, Japan
- 代理人： 김양오; 송재련; 한규환
- 优先权： JP93-154805 1993-06-25
- 主分类号： G03F7/004
- IPC分类号： G03F7/004
(단, 상기식에서, A는 탄소수가 2이상인 유기기이고, n은 10 내지 200,000의 정수이며, R
1 은 탄소수가 1이상인 유기기, 수소, 할로겐 원자중 어느 하나이다.)
으로 표시되는 중합체의 전중량에 대하여 카르복실기의 비율이 20중량%이상이고, 수평균분자량이 10,000내지 1,000,000인 카르복시산 중합체(가)와 전자파 조사에 의하여 염기가 발생하는 광염기발생제(나)를 상기 카르복실기에 대하여 0.2 내지 2.0몰당량 포함하는 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물과 이를 사용한 패턴 형성 방법을 제공한다.
본 발명의 포지티브형 감광성 수지 조성물의 제공의 환경오염방지, 작업환경의 개선, 적용매품의 고밀도, 고신뢰도화가 달성된다.
To the present invention are formula (Ⅰ): (Note that the formula, A is an organic group having a carbon number of not less than a 2, n is an integer from 10 to 200,000, R 1 is any one of organic groups, hydrogen, a halogen atom or more carbon atoms is 1). And the ratio of the carboxyl group with respect to the total weight of the polymer by more than 20% by weight, represented by number average molecular weight of from 10,000 to 1,000,000, a carboxylic acid polymer (A) and said optical base-generating agent (B) to the base is generated by the electromagnetic wave irradiation with respect to a carboxyl group provides a photosensitive resin composition and a pattern forming method using the same, it characterized in that it comprises from 0.2 to 2.0 molar equivalents. Prevention of environmental contamination of the positive photosensitive resin composition of the invention provides improvement of the working environment, the application sheet product a high density, high reliability is achieved upset.