(상기식 중, n은 1또는 2의 정수를 나타내고, Ar은 n가의 방향족탄화수소기를 나타낸다.)로 표시되는 하이토록퍼옥사이드류를 산촉매의 존재하에서 산분해하여, 일반식(Ⅱ) Ar-(OH)n (Ⅱ) (식중, Ar 및 n은 상기와 같다.)로 표시되는 하이드록시방향족화합물을 제조하는 방법에 있어서, 산촉매로써, 테트라플루오로붕산, 헥사플루오로규산 또는 헥사플루오로인산을 사용하는 것을 특징으로 하는 하이드록시방향족화합물의 제조방법이 개시되어 있다. 이같은 방법에 의하면, 하이드록시아세톤의 부생을 잘 억제하여, 고수율로 하이드록시방향족화합물을 얻을 수 있다. 특히, 상기 산분해반응을 제1단과 제2단으로 나누어서 행하며, 반응의 제1단을 제1반응기 중에서 온도 50℃ 내지 95℃에서 행하고, 얻어진 반응혼합물을 제2반응기로 유도하고, 여기서, 반응의 제2단을 온도 80℃ 내지 120℃에서 행함으로써, 하이드록시아세톤의 부생을 특히 효과적으로 억제하여, 목적으로 하는 하이드록시방향족화합물을 한층 고수율로 얻을 수 있다.">
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