基本信息:

• 专利标题： 레지스트 조성물, 레지스트 패턴 형성 방법, 화합물 및 고분자 화합물
• 专利标题（英）：RESIST COMPOSITION, METHOD OF FORMING RESIST PATTERN, COMPOUND AND POLYMERIC COMPOUND
• 申请号：KR1020180050744 申请日：2018-05-02
• 公开(公告)号：KR101947956B1 公开(公告)日：2019-02-13
• 发明人： 다카키다이치 , 시오노다이주 , 우츠미요시유키 , 가이호다카아키
• 申请人： 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤
• 申请人地址： 일본국 가나가와껭 가와사끼시 나까하라구 나까마루꼬 ***반찌
• 专利权人： 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤
• 当前专利权人： 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤
• 当前专利权人地址： 일본국 가나가와껭 가와사끼시 나까하라구 나까마루꼬 ***반찌
• 代理人： 특허법인코리아나
• 优先权： JPJP-P-2011-245904 2011-11-09
• 主分类号： C07C233/90
• IPC分类号： C07C233/90 ; C07C233/91 ; C07C233/92 ; C07C235/88 ; C07D493/08 ; G03F7/004 ; G03F7/039 ; C08F220/18 ; C08F220/30 ; G03F7/028

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