基本信息:
- 专利标题： 그래핀 합성 챔버
- 专利标题（英）：KR101926497B1 - Graphene Synthesis Chamber
- 申请号：KR1020180033497 申请日：2018-03-22
- 公开(公告)号：KR101926497B1 公开(公告)日：2018-12-07
- 发明人： 원동관 , 남원식
- 申请人： 한화에어로스페이스 주식회사 , (주)앤피에스
- 申请人地址： (Seongju-dong) ****, Changwon-daero, Seongsan-gu, Changwon-si, Gyeongsangnam-do, Republic of Korea
- 专利权人： 한화에어로스페이스 주식회사,(주)앤피에스
- 当前专利权人： 한화에어로스페이스 주식회사,(주)앤피에스
- 当前专利权人地址： (Seongju-dong) ****, Changwon-daero, Seongsan-gu, Changwon-si, Gyeongsangnam-do, Republic of Korea
- 代理人： 리앤목특허법인
- 主分类号： C01B32/184
- IPC分类号： C01B32/184 ; B01J19/08 ; B82B3/00 ; C23C16/26
摘要：
본 발명은, 복수개의 기판들이 안치되는 내부 공간을 정의하는 챔버 케이스; 상기 내부 공간으로 탄소를 포함하는 가스를 공급하는 가스 공급부, 상기 내부 공간으로 빛을 조사하는 주 가열부, 상기 주 가열부에 대응하여 상기 기판의 일면과 대향하도록 배치되고, 상기 빛에 의해 가열된 후 열을 상기 내부 공간으로 방출하는 제1 보조 가열부, 및 상기 복수개의 기판들의 사이에 상기 기판의 적어도 하나의 면과 대향하도록 배치되고, 상기 빛에 의해 가열된 후 열을 상기 내부 공간으로 방출하는 제2 보조 가열부를 포함하는, 그래핀 합성 챔버를 제공한다.
摘要（英）：
The present invention, the chamber casing defining an interior space in which a plurality of substrates are placed; A gas supply, the main heating unit for irradiating light into the internal space for supplying a gas containing carbon in the internal space, in response to said main heating element and arranged to face the one surface of the substrate, heated by the light the first auxiliary heating element, and is arranged to face the at least one surface of the substrate between of the plurality of the substrate, evolution of heat in the interior space and then heated by the light emitted after the heat in the interior space the provides, graphene synthesis chamber containing two secondary heating portion for.
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
| C | 化学；冶金 |
| --C01 | 无机化学 |
| ----C01B | 非金属元素；其化合物 |
| ------C01B32/00 | 碳；其化合物 |
| --------C01B32/15 | .纳米级碳材料 |
| ----------C01B32/182 | ..石墨烯 |
| ------------C01B32/184 | ...制备 |