基本信息:
- 专利标题： 기판의 성질을 측정하기 위한 방법 및 장치
- 专利标题（英）：Methods and apparatus for measuring a property of a substrate
- 专利标题（中）：用于测量衬底性能的方法和设备
- 申请号：KR1020147014929 申请日：2012-11-22
- 公开(公告)号：KR101705275B1 公开(公告)日：2017-02-09
- 发明人： 엘링스우터 , 반빌슨프란시스쿠스 , 드몰크리스티아누스 , 모스에버하르두스 , 톨스마호이트 , 텐벌지피터 , 반위즈넨폴 , 베르스태픈레오나르두스 , 딕커제럴드 , 융블러트라이너 , 리청-순
- 申请人： 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.
- 申请人地址： P.O.Box ***, **** AH Veldhoven, The Netherlands
- 专利权人： 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.
- 当前专利权人： 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.
- 当前专利权人地址： P.O.Box ***, **** AH Veldhoven, The Netherlands
- 代理人： 유미특허법인
- 优先权： US61/579,969 2011-12-23
- 国际申请： PCT/EP2012/073396 2012-11-22
- 国际公布： WO2013092106 2013-06-27
- 主分类号： G01N21/956
- IPC分类号： G01N21/956 ; G01N21/47
摘要：
웨이퍼기판의성질, 예컨대크리티컬디멘전또는오버레이의측정에서, 기판의성질을측정하기위하여정의된샘플링플랜이생성되는데(2506), 여기에서샘플링플랜은복수의서브-샘플링플랜을포함한다. 샘플링플랜은측정포인트의선결정된고정된개수로한정될수도있고검사장치가개별적인기판에대한상이한서브-샘플링플랜을사용하여복수의기판의성질의복수의측정을수행하도록제어하기위하여사용되며(2508), 선택적으로, 결과들은적층되어(stacked; 2510) 그샘플플랜에따른측정결과를적어도부분적으로재구성한다.
摘要（中）：
在晶片衬底的性质（例如临界尺寸或覆盖测量）中，创建2506定义的采样计划以测量衬底的性质，其中采样计划包括多个子采样计划。 采样计划可以被限制为预定的固定数量的测量点并且被使用2508来控制检查设备使用针对各个衬底的不同的子采样计划来执行多个衬底的特性的多个测量， 可选地，结果被堆叠（2510）并且根据样本计划至少部分地重建测量结果。
摘要（英）：
In the properties of the wafer substrate, for example, di-critical menjeon or measurement of the overlay, the sampling plan is generated is defined to measure the properties of the substrate 2506, where the sampling plan is a plurality of sub-sampling comprises a flange. Sampling plan may be limited to a fixed number of predetermined lines of the measuring point, and the testing device is different sub of the individual substrate is used to control to perform a plurality of measurements of the properties of the plurality of substrates by using a sampling plan (2508 ), optionally, the results are stacked (stacked; reconstructs the measurement results corresponding to the sample plan 2510), at least in part.
公开/授权文献:
- KR1020140083055A 기판의 성질을 측정하기 위한 방법 및 장치 公开/授权日：2014-07-03
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
| G | 物理 |
| --G01 | 测量；测试 |
| ----G01N | 借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料 |
| ------G01N21/00 | 利用光学手段，即利用红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料 |
| --------G01N21/01 | .便于进行光学测试的装置或仪器 |
| ----------G01N21/88 | ..测试瑕疵、缺陷或污点的存在 |
| ------------G01N21/95 | ...特征在于待测物品的材料或形状 |
| --------------G01N21/956 | ....检测物品表面上的图案 |