基本信息:
- 专利标题: 종형 열처리 장치
- 专利标题(英):Vertical heat treatment apparatus
- 专利标题(中):垂直热处理设备
- 申请号:KR1020110111437 申请日:2011-10-28
- 公开(公告)号:KR101484811B1 公开(公告)日:2015-01-20
- 发明人: 하세베가즈히데
- 申请人: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
- 申请人地址: *-* Akasaka *-chome, Minato-ku, Tokyo, Japan
- 专利权人: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
- 当前专利权人: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
- 当前专利权人地址: *-* Akasaka *-chome, Minato-ku, Tokyo, Japan
- 代理人: 장수길; 성재동
- 优先权: JPJP-P-2010-244452 2010-10-29
- 主分类号: H01L21/205
- IPC分类号: H01L21/205 ; H01L21/683
상기 기판 보유 지지구는 경사축 둘레로 회전하고, 웨이퍼(W)의 각각의 수납 위치마다, 웨이퍼(W)의 둘레 방향으로 서로 이격한 위치에 있어서 당해 웨이퍼(W)의 주연부를 각각 지지하는 복수의 주 보유 지지부(33a)와, 이들 주 보유 지지부(33a)에 대하여 웨이퍼(W)의 둘레 방향으로 이격된 위치에 설치되고, 상기 경사축 방향에 있어서 상기 주 보유 지지부(33a)의 상면 보다 그 높이가 낮은 제1 및 제2 보조 보유 지지부(33b, 33c)를 설치하고, 이 웨이퍼 보트(11)가 1회전할 때마다, 웨이퍼(W)의 자세가 상기 제1 보조 보유 지지부 및 주 보유 지지부(33a)에 의해 지지되는 자세와 상기 제2 보조 보유 지지부 및 주 보유 지지부(33a)에 의해 지지되는 자세 사이에서 바뀌도록 한다.
According to supplying the deposition gas to a plurality of substrates stacked in a shelf shape on the earth support substrate holding for performing the film forming process, and provides a vertical heat treatment apparatus which can suppress the generation or the substrate and the substrate holding support earth attachment of the particle.
Rotates the substrate holding District tilt axis, and the wafer (W) respectively for each receiving position, of the plurality of relevant supporting the peripheral portion of the wafer (W), each in a spaced apart from each other in position in the circumferential direction of the wafer (W) of and the main holding portion (33a), these primary and with respect to the holding part (33a) installed in a position spaced in the circumferential direction of the wafer (W), the height of the upper surface of the main holding portion (33a) in said slope axially the lower first and second auxiliary holding portion (33b, 33c) for installation, and the wafer boat 11 is 1 per revolution, holding the wafer (W) positions said first auxiliary holding portion of and the main support ( between 33a) it is supported by the posture and the second is supported by the second auxiliary holding portion and the main holding portion (33a) position to be changed.
公开/授权文献:
- KR1020120046065A 종형 열처리 장치 公开/授权日:2012-05-09