基本信息:
- 专利标题： 촉매 ＣＶＤ 장치, 막의 형성 방법, 태양 전지의 제조 방법 및 기재의 유지체
- 专利标题（英）：Catalytic cvd device, method for formation of film, process for production of solar cell, and substrate holder
- 专利标题（中）：催化CVD装置，膜的形成方法，太阳能电池的制造方法以及基板保持件
- 申请号：KR1020127011213 申请日：2010-10-01
- 公开(公告)号：KR101462321B1 公开(公告)日：2014-11-14
- 发明人： 시마마사키 , 와카미야요시노리 , 오소노슈지 , 오카야마사토히로 , 오가타히데유키
- 申请人： 산요덴키가부시키가이샤 , 가부시키가이샤 아루박
- 申请人地址： *-*, Sanyo-cho, Daito-shi, Osaka ***-****, Japan
- 专利权人： 산요덴키가부시키가이샤,가부시키가이샤 아루박
- 当前专利权人： 산요덴키가부시키가이샤,가부시키가이샤 아루박
- 当前专利权人地址： *-*, Sanyo-cho, Daito-shi, Osaka ***-****, Japan
- 代理人： 장수길; 이중희
- 优先权： JPJP-P-2009-230589 2009-10-02
- 国际申请： PCT/JP2010/067285 2010-10-01
- 国际公布： WO2011040610 2011-04-07
- 主分类号： C23C16/44
- IPC分类号： C23C16/44 ; C23C16/24 ; H01L21/205
摘要：
촉매 CVD 장치(100)에서 유지체(300)는 촉매선(11)으로부터 방출되는 복사선의 기재(200)측으로의 반사를 방지하기 위한 반사 방지 구조를 갖는다.
摘要（中）：
在催化CVD设备100中，保持器300包括防反射结构，用于防止从催化丝11向衬底200的一侧喷出的辐射线的反射。
摘要（英）：
Holding member 300 in the catalytic CVD apparatus 100 has an anti-reflection structure for preventing the reflection toward the substrate 200 of the radiation emitted by the catalyst line 11.
公开/授权文献:
- KR1020120073318A 촉매 ＣＶＤ 장치, 막의 형성 방법, 태양 전지의 제조 방법 및 기재의 유지체 公开/授权日：2012-07-04