基本信息:
- 专利标题: 클리쉐 및 이를 포함하는 인쇄 장치
- 专利标题(英):Cliche and printing apparatus comprising the same
- 专利标题(中):包装和印刷装置
- 申请号:KR1020130063146 申请日:2013-05-31
- 公开(公告)号:KR101444604B1 公开(公告)日:2014-09-26
- 发明人: 성지현 , 손용구 , 이승헌 , 황지영
- 申请人: 주식회사 엘지화학
- 申请人地址: ***, Yeoui-daero, Yeongdeungpo-gu, Seoul, Republic of Korea
- 专利权人: 주식회사 엘지화학
- 当前专利权人: 주식회사 엘지화학
- 当前专利权人地址: ***, Yeoui-daero, Yeongdeungpo-gu, Seoul, Republic of Korea
- 代理人: 정순성
- 优先权: KR1020120058041 2012-05-31; KR1020120058059 2012-05-31; KR1020120058238 2012-05-31
- 主分类号: H01L21/027
- IPC分类号: H01L21/027
摘要:
본 명세서에는 클리쉐, 클리쉐의 제조방법 및 클리쉐를 이용한 인쇄 방법이 기재되어 있다.
摘要(英):
The printing method using the keulriswe herein, the production method and keulriswe keulriswe are described.
公开/授权文献:
- KR1020130135198A 클리쉐 및 이를 포함하는 인쇄 장치 公开/授权日:2013-12-10
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
H | 电学 |
--H01 | 基本电气元件 |
----H01L | 半导体器件;其他类目未包含的电固体器件 |
------H01L21/00 | 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备 |
--------H01L21/02 | .半导体器件或其部件的制造或处理 |
----------H01L21/027 | ..未在H01L21/18或H01L21/34组中包含的为进一步的光刻工艺在半导体之上制作掩膜 |