基本信息:
- 专利标题： 플라즈마 처리장치
- 专利标题（英）：Apparatus for processing plasma
- 专利标题（中）：等离子体处理装置
- 申请号：KR1020120110649 申请日：2012-10-05
- 公开(公告)号：KR101414168B1 公开(公告)日：2014-07-04
- 发明人： 김성인 , 손병구 , 김용득 , 김병훈 , 이문원 , 송석균
- 申请人： 재단법인 철원플라즈마 산업기술연구원
- 申请人地址： 강원도 철원군 갈말읍 호국로 ****
- 专利权人： 재단법인 철원플라즈마 산업기술연구원
- 当前专利权人： 재단법인 철원플라즈마 산업기술연구원
- 当前专利权人地址： 강원도 철원군 갈말읍 호국로 ****
- 代理人： 김윤배
- 主分类号： H05H1/34
- IPC分类号： H05H1/34 ; H05H1/46 ; H01L21/00
摘要：
본 발명의 플라즈마 처리장치는 플라즈마 처리대상소재의 플라즈마 처리를 위한 통과 경로가 반응기 내에서 코일형태의 유전체를 갖도록 하고, 반응기 내로 공급되는 처리대상소재의 공급량을 조절하는 것이 가능하다. 본 발명에 따르면 플라즈마 처리대상소재의 방전처리 노출시간을 증대시킴으로써, 보다 균일하고 일정한 전기적 및 물리적 특성의 변환이 가능한 소재의 생산이 이루어질 수 있도록 할 뿐만 아니라 생산자가 원하는 정도의 전기적 및 물리적 특성의 변환을 위한 다양한 조절 및 장치의 변형이 용이하게 이루어질 수 있도록 한다.
摘要（英）：
The plasma processing apparatus of the present invention it is possible to pass through path for the plasma processing of the plasma processing target material to have a dielectric of the coils in the reactor, and controlling the feed rate of the processed material that is fed into the reactor. Conversion by increasing the discharge treatment exposure time of the plasma processing target material according to the present invention, more uniform and constant electrical and physical properties the degree of electrical and physical properties to be as well as desired by the manufacturer so that the conversion can be made to produce the available materials and make it easy to be deformed in a variety of control and apparatus for a.
公开/授权文献:
- KR1020140044547A 플라즈마 처리장치 公开/授权日：2014-04-15
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
| H | 电学 |
| --H05 | 其他类目不包含的电技术 |
| ----H05H | 等离子体技术（离子束管入H01J27/00；磁流体发电机入H02K44/08；涉及生成等离子体的产生X射线的入H05G2/00）；加速的带电粒子或中子的产生（从放射源获取中子的入G21，例如：G21B，G21C，G21G）；中性分子或原子射束的产生或加速 |
| ------H05H1/00 | 等离子体的产生；等离子体的处理 |
| --------H05H1/02 | .用电场或磁场约束等离子体的装置；加热等离子体的装置 |
| ----------H05H1/26 | ..等离子体喷管 |
| ------------H05H1/32 | ...应用电弧的 |
| --------------H05H1/34 | ....零部件，例如电极、喷嘴 |