基本信息:
- 专利标题： 하전 입자 빔 현미경
- 专利标题（英）：Charged particle beam microscope
- 专利标题（中）：充电颗粒光束显微镜
- 申请号：KR1020137003177 申请日：2011-08-08
- 公开(公告)号：KR101411119B1 公开(公告)日：2014-06-25
- 发明人： 후꾸다,무네유끼 , 스즈끼,나오마사 , 쇼조,도모야스 , 다까하시,노리쯔구 , 스즈끼,히로시 , 마끼노,히로시
- 申请人： 가부시키가이샤 히다치 하이테크놀로지즈
- 申请人地址： **-**, NISHISHINBASHI *-CHOME, MINATO-KU, TOKYO JAPAN
- 专利权人： 가부시키가이샤 히다치 하이테크놀로지즈
- 当前专利权人： 가부시키가이샤 히다치 하이테크놀로지즈
- 当前专利权人地址： **-**, NISHISHINBASHI *-CHOME, MINATO-KU, TOKYO JAPAN
- 代理人： 장수길; 박충범; 이중희
- 优先权： JPJP-P-2010-214595 2010-09-25
- 国际申请： PCT/JP2011/068091 2011-08-08
- 国际公布： WO2012039206 2012-03-29
- 主分类号： H01J37/22
- IPC分类号： H01J37/22 ; H01J37/28
摘要：
본 발명의 하전 입자 빔 현미경은, 검출 입자(118)의 계측 처리법의 선택 수단(153, 155)을 구비하고, 상기 수단은 시료(114)로부터 방출되는 2차 전자(115)수가 많은 주사 영역과, 2차 전자수가 적은 주사 영역에서, 상이한 계측 처리법을 선택하는 것을 특징으로 한다. 이에 의해, 하전 입자 빔 현미경을 이용한 시료 검사에 있어서, 방출되는 2차 전자수가 적은 구멍 바닥이나 홈 바닥의 대비를 강조한 상, 및 음영 대비를 강조한 상을 단시간에 취득할 수 있게 되었다.
摘要（英）：
Charged particle beam microscope of the present invention, the detection particle (118) selecting means (153, 155) for including the said means of measuring treatment is a secondary electron 115, a large number of scan areas to be emitted from the sample 114 of the , it characterized in that the secondary electron small number of scan areas, select different measurement processing method. As a result, it was possible to sample in the test using a charged particle beam microscope, it acquires the image highlighting the number of secondary electrons emitted emphasizing the contrast of a small hole in the floor or onto the groove bottom, and shade contrast in a short time.
公开/授权文献:
- KR1020130026503A 하전 입자 빔 현미경 公开/授权日：2013-03-13