基本信息:
- 专利标题： 블록공중합체의 나노패터닝 방법 및 이를 이용한 편광자제조방법
- 专利标题（英）：Method for nano-patterning block copolymers and method for manufacturing polarizer using the same
- 专利标题（中）：纳米图案嵌段共聚物的方法和使用其制备偏振片的方法
- 申请号：KR1020070065688 申请日：2007-06-29
- 公开(公告)号：KR101346687B1 公开(公告)日：2014-01-15
- 发明人： 김상욱 , 이수미 , 이문규 , 김봉훈 , 신동옥
- 申请人： 삼성디스플레이 주식회사 , 한국과학기술원
- 申请人地址： 경기 용인시 기흥구 삼성로*(농서동)
- 专利权人： 삼성디스플레이 주식회사,한국과학기술원
- 当前专利权人： 삼성디스플레이 주식회사,한국과학기술원
- 当前专利权人地址： 경기 용인시 기흥구 삼성로*(농서동)
- 代理人： 리앤목특허법인
- 主分类号： G03F7/00
- IPC分类号： G03F7/00 ; G02B5/30 ; B82B3/00
摘要：
블록공중합체 나노패터닝방법 및 이를 이용한 편광자 제조방법이 개시된다. 개시된 블록공중합체 나노패터닝방법은 하부기판 위에 블록공중합체를 소정두께로 도포하는 단계, 블록공중합체를 패터닝하여 소정 종횡비를 가지도록 두께구배를 주는 단계 및 두께구배가 형성된 블록공중합체를 열처리하여 자기조립된 블록공중합체를 그 두께구배방향으로 정렬시키는 단계를 포함한다.
摘要（英）：
The block copolymer nano-patterning method and a method of manufacturing a polarizer using the same are disclosed. The disclosed block copolymer nano patterning method by heat treatment step, a block copolymer by patterning a polymer imparting a thickness gradient to have a predetermined aspect ratio and a block copolymer thickness gradient is formed for applying the block copolymer on the lower substrate to a predetermined thickness of the magnetic and a step of aligning the assembled block copolymer in the thickness direction of the gradient.
公开/授权文献:
- KR1020090001371A 블록공중합체의 나노패터닝 방법 및 이를 이용한 편광자제조방법 公开/授权日：2009-01-08