基本信息:
- 专利标题: 수직형 플라즈마 장치와 스크러버 장치로 이루어진 유해가스 처리장치
- 专利标题(英):Apparatus for treating hazardous gas integrated plasma and scrubber
- 专利标题(中):用于处理有害气体的等离子和洗涤器的装置
- 申请号:KR1020110086326 申请日:2011-08-29
- 公开(公告)号:KR101321117B1 公开(公告)日:2013-10-29
- 发明人: 한방우 , 김용진 , 김학준
- 申请人: 한국기계연구원
- 申请人地址: 대전광역시 유성구 가정북로 *** (장동)
- 专利权人: 한국기계연구원
- 当前专利权人: 한국기계연구원
- 当前专利权人地址: 대전광역시 유성구 가정북로 *** (장동)
- 代理人: 진용석
- 主分类号: B01D53/32
- IPC分类号: B01D53/32 ; B01D47/02 ; B01D47/14
이러한 본 발명은 수직형 플라즈마 장치와 스크러버 장치로 이루어진 유해가스 처리장치는, 플라즈마 장치와 스크러버 장치를 이용하여 유해가스를 처리하는 유해가스 처리장치에 있어서, 플라즈마를 발생하는 방전극과 접지극이 지면과 수직방향으로 설치되어, 유해가스가 상측에서 하측으로 이동하도록 이루어진 플라즈마 장치부와; 상기 플라즈마 장치부의 하측에 설치되는 스크러버 장치부로 구성되며, 상기 스크러버 장치부에 사용되는 세정액은 플라즈마 장치부의 접지극에 공급되어 접지극에 수막을 형성한 후 스크러버 장치부의 패킹볼에 공급되도록 이루어진 것이다.
Vertical in the present invention can remove harmful gases, such as using a plasma discharge and a cleaning liquid power plants, incineration plants, manufacturing plants is included in the harmful gas of particulate matter and nitrogen oxides (NOx) and sulfur oxides, which are discharged from (SOx) It made of a plasma device and a scrubber device relates to a toxic gas treatment apparatus.
The present invention is harmful gas treating device consisting of a vertical type plasma apparatus, and scrubber unit, in the harmful gas processing apparatus for processing a harmful gas by plasma unit and the scrubber apparatus, the discharge electrode and the earth electrode for generating a plasma surface and a vertical It is provided in the direction, and the plasma apparatus unit composed of a harmful gas to move to the lower side from the upper side; Cleaning liquid is composed of a scrubber unit that is installed under the plasma apparatus parts, used in the scrubber unit so that the unit has been made is supplied to the earth electrode portion plasma unit supplied to the packing device to view the scrubber unit after the formation of a water film on the earth electrode.
公开/授权文献:
- KR1020130023512A 수직형 플라즈마 장치와 스크러버 장치로 이루어진 유해가스 처리장치 公开/授权日:2013-03-08