基本信息:
- 专利标题: 플라즈마전해 양극산화방법
- 专利标题(英):Plasma electrolytic oxidation coating method
- 专利标题(中):等离子体电解氧化涂层方法
- 申请号:KR1020100055541 申请日:2010-06-11
- 公开(公告)号:KR101191957B1 公开(公告)日:2012-10-17
- 发明人: 도정만 , 한승희 , 윤진국 , 홍경태 , 변지영
- 申请人: 한국과학기술연구원
- 申请人地址: 서울특별시 성북구 화랑로**길 * (하월곡동)
- 专利权人: 한국과학기술연구원
- 当前专利权人: 한국과학기술연구원
- 当前专利权人地址: 서울특별시 성북구 화랑로**길 * (하월곡동)
- 代理人: 유미특허법인
- 主分类号: C25D11/02
- IPC分类号: C25D11/02
摘要:
본 발명은 플라즈마 전해양극 산화방법에 관한 것이다. 플라즈마 전해양극 산화방법은 i) 피처리 부재를 전처리하는 단계, ii) 피처리 부재를 전해액에 담지하고, 피처리 부재를 플라즈마전해 양극산화장치에 연결하는 단계, 및 iii) 플라즈마전해 양극산화장치가 양전류 및 음전류를 교대로 제공하여 피처리 부재에 산화막을 형성하는 단계를 포함한다.
摘要(英):
The present invention relates to a cathode electrolytic plasma oxidation method. Plasma electrolytic anodising method i) comprising pre-processing the target member, ii) blood and supporting the processing member in an electrolytic solution, comprising: a target member plasma electrolytic connected to the anodizing device, and iii) a plasma electrolytic anodizing device providing a positive current and a negative current alternately to a step of forming an oxide film on a target member.
公开/授权文献:
- KR1020110135680A 플라즈마전해 양극산화방법 公开/授权日:2011-12-19
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
C | 化学;冶金 |
--C25 | 电解或电泳工艺;其所用设备 |
----C25D | 覆层的电解或电泳生产工艺方法;电铸;工件的电解法接合;所用的装置 |
------C25D11/00 | 表面反应,即形成转化层的电解覆层 |
--------C25D11/02 | .阳极氧化 |