基本信息:
- 专利标题： 락톤 함유 화합물, 고분자 화합물, 레지스트 재료 및 패턴형성 방법
- 专利标题（英）：Lactone-Containing Compound, Polymer, Resist Composition, and Patterning Process
- 专利标题（中）：含内酯的化合物，聚合物，抗蚀剂组合物和图案化方法
- 申请号：KR1020070001259 申请日：2007-01-05
- 公开(公告)号：KR101148553B1 公开(公告)日：2012-05-25
- 发明人： 하세가와,고지 , 와따나베,사또시 , 하따께야마,준 , 긴쇼,다께시 , 다찌바나,세이이찌로
- 申请人： 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤
- 申请人地址： 일본 도꾜도 지요다꾸 오떼마치 *쪼메 *방 *고
- 专利权人： 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤
- 当前专利权人： 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤
- 当前专利权人地址： 일본 도꾜도 지요다꾸 오떼마치 *쪼메 *방 *고
- 代理人： 김영; 장수길; 구영창
- 优先权： JPJP-P-2006-00001102 2006-01-06
- 主分类号： C07D307/00
- IPC分类号： C07D307/00 ; C07D307/94 ; G03F7/039
(식 중, A
1 은 탄소-탄소 이중 결합을 갖는 중합성 관능기를 나타내고, R
1 은 구성 탄소상의 수소 원자의 일부 또는 전부가 불소 원자로 치환된 탄소수 1 내지 10의 직쇄상, 분지상 또는 환상의 1가 탄화수소기를 나타내고, W는 CH
2 , 산소 원자, 황 원자 중 어느 것을 나타낸다.)
본 발명의 락톤 함유 화합물은 기능성 재료, 의약ㆍ농약 등의 원료로서 유용하고, 그 중에서도 파장 500 nm 이하, 특히 파장 300 nm 이하의 방사선에 대하여 우수한 투명성을 가지고, 현상 특성이 양호한 감방사선 레지스트 조성물의 기재 수지를 제조하기 위한 단량체로서 매우 유용하다. 또한, 본 발명의 중합체를 감방사선 레지스트 조성물의 기재 수지로서 이용하는 경우, 고해상성이면서 또한 액침 매체인 물에의 용출 및 물의 침입을 억제하므로, 이 고분자 화합물은 레지스트 재료로서 정밀한 미세 가공에 매우 효과적이다.
락톤 함유 화합물, 레지스트 재료.
The present invention relates to a lactone-containing compound represented by the following general formula (1).
公开/授权文献:
- KR1020070074476A 락톤 함유 화합물, 고분자 화합물, 레지스트 재료 및 패턴형성 방법 公开/授权日：2007-07-12
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
| C | 化学；冶金 |
| --C07 | 有机化学 |
| ----C07D | 杂环化合物 |
| ------C07D307/00 | 杂环化合物，含五元环，含有1个氧原子作为仅有的杂环原子 |