基本信息:
- 专利标题： 고분자 용액 내 포함된 촉매 잔사 제거 방법 및 이에 의해정제된 고분자
- 专利标题（英）：Catalyst contained in the residue removal method the polymer solution and thus the polymer purified by
- 专利标题（中）：一种去除聚合物溶液和聚合物中所含催化剂残余物的方法
- 申请号：KR1020060109512 申请日：2006-11-07
- 公开(公告)号：KR101049938B1 公开(公告)日：2011-07-15
- 发明人： 윤성철 , 정혜영 , 전성호
- 申请人： 주식회사 엘지화학
- 申请人地址： ***, Yeoui-daero, Yeongdeungpo-gu, Seoul, Republic of Korea
- 专利权人： 주식회사 엘지화학
- 当前专利权人： 주식회사 엘지화학
- 当前专利权人地址： ***, Yeoui-daero, Yeongdeungpo-gu, Seoul, Republic of Korea
- 代理人： 유미특허법인
- 主分类号： C08G18/82
- IPC分类号： C08G18/82 ; C08G18/87 ; C08J5/18 ; C08J5/00
摘要：
본 발명은 10족 금속을 포함하는 촉매를 이용하여 제조된 고분자 용액에서 티오우레아계 화합물을 이용하여 고분자 용액 내 잔류 촉매 금속 화합물의 제거방법, 이에 의해 잔류 촉매 금속 화합물이 제거된 고분자 및 이에 의해 제조된 필름에 관한 것이다.
유기 티오우레아계 화합물, 킬레이트, 촉매, 금속, 극성용매
摘要（中）：
유기 티오우레아계 화합물, 킬레이트, 촉매, 금속, 극성용매
本发明是在去除用催化剂，其包含金属的方法，由此，残留催化剂金属化合物是由聚合物中除去，因此通过产生制得的聚合物溶液中的残留催化剂金属化合物的聚合物溶液中使用的第10族硫脲类化合物 ＆lt;
摘要（英）：
The invention Group 10 using a thiourea compound in a polymer solution prepared by using a catalyst comprising a metal method the removal of the residual catalyst metal compound polymer solution, thereby producing residual catalytic metal compound by the removal polymer and whereby It relates to a film. An organic thiourea compound, a chelate, a catalyst, a metal, a polar solvent
公开/授权文献:
- KR1020080041425A 고분자 용액 내 포함된 촉매 잔사 제거 방법 및 이에 의해정제된 고분자 公开/授权日：2008-05-13
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
| C | 化学；冶金 |
| --C08 | 有机高分子化合物；其制备或化学加工；以其为基料的组合物 |
| ----C08G | 用碳—碳不饱和键以外的反应得到的高分子化合物 |
| ------C08G18/00 | 异氰酸酯类或异硫氰酸酯类的聚合产物 |
| --------C08G18/06 | .与具有活性氢的化合物 |
| ----------C08G18/82 | ..聚合后处理 |