基本信息:
- 专利标题： 기판 표면전위 측정방법 및 플라즈마 장치
- 专利标题（英）：Substrate surface potential measuring apparatus and plasma equipment
- 专利标题（中）：测量基片表面电极位置的方法
- 申请号：KR1019940028848 申请日：1994-11-04
- 公开(公告)号：KR100163223B1 公开(公告)日：1999-03-20
- 发明人： 사사끼마꼬또 , 후꾸이히로후미 , 아이하라마사미 , 후꾸다고우이찌 , 가사마야스히꼬 , 오미다다히로
- 申请人： 알프스 덴키 가부시키가이샤 , 오미 다다히로 , 가부시키가이샤 프론테크
- 申请人地址： *-* Yukigaya-otsukamachi, Ota-ku, Tokyo ***-**** Japan
- 专利权人： 알프스 덴키 가부시키가이샤,오미 다다히로,가부시키가이샤 프론테크
- 当前专利权人： 알프스 덴키 가부시키가이샤,오미 다다히로,가부시키가이샤 프론테크
- 当前专利权人地址： *-* Yukigaya-otsukamachi, Ota-ku, Tokyo ***-**** Japan
- 代理人： 송재련; 한규환
- 优先权： JP93-282724 1993-11-11
- 主分类号： G01R31/302
- IPC分类号： G01R31/302
플라즈마 장치의 기판 표면전위를 측정하는 기판 표면전위 측정장치로서, 기판을 지지하는 서셉터 전극에 전기적으로 접속하기 위한 단자와, 상기 단자와 어스사이에 설치된 제1 콘덴서와, 상기 단자의 전위 측정수단을 가지고, 상기 전위 측정수단에 의하여 측정되는 서셉터 전극의 전위로부터 상기 기판의 표면전위를 구하는 것을 특징으로 한다.
The present invention accurately measures the substrate potential can accurately measure the surface potential measuring apparatus and ion energy, regardless of the material of the substrate, and further to provide a plasma apparatus which can control the ion energy for the purpose. A substrate surface potential measuring apparatus for measuring a surface of the substrate potential of the plasma device, and the terminals for electrically connecting to the susceptor electrode for supporting a substrate, the electric potential measurement means with a first capacitor disposed between the terminals and ground, the terminals to have, and the potential of a susceptor electrode which is measured by the potential measuring means characterized in that to obtain the surface potential of the substrate.
公开/授权文献:
- KR1019950015562A 기판 표면전위 측정방법 및 플라즈마 장치 公开/授权日：1995-06-17