基本信息:
- 专利标题： めっき装置及びめっきシステム
- 申请号：JP2018009815 申请日：2018-03-13
- 公开(公告)号：JPWO2019175990A1 公开(公告)日：2020-12-03
- 发明人： 山本 渡 , 小岩 仁子 , 秋山 勝徳 , 星野 芳明
- 申请人： 株式会社山本鍍金試験器
- 申请人地址： 東京都渋谷区千駄ヶ谷5丁目28番1号
- 专利权人： 株式会社山本鍍金試験器
- 当前专利权人： 株式会社山本鍍金試験器
- 当前专利权人地址： 東京都渋谷区千駄ヶ谷5丁目28番1号
- 代理人： 特許業務法人磯野国際特許商標事務所
- 主分类号： C25D21/12
- IPC分类号： C25D21/12 ; C25D17/12
摘要：
ミクロスローイングパワーを好適に測定することが可能なめっき装置を提供する。 第一のめっき装置(1A)は、第一のめっき槽(11A)内に設けられる第一の陽極(12A)と、第一のめっき槽(11A)内に設けられており、穴部(5)を有する絶縁性基材(4)と、穴部(5)の底部と、絶縁性基材(4)における穴部(5)の開口側の面と、にそれぞれ設けられる一対の第一の陰極(13AX,13AY)と、第一の陽極(12)と一対の第一の陰極(13AX,13AY)との間に電流を流すための第一のめっき電源(14A)と、一対の第一の陰極(13AX,13AY)のそれぞれに流れる電流値を計測する第一の電流計測回路(22A)と、を備える。
公开/授权文献:
- JP6510684B2 照明システム 公开/授权日：2019-05-08
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
| C | 化学；冶金 |
| --C25 | 电解或电泳工艺；其所用设备 |
| ----C25D | 覆层的电解或电泳生产工艺方法；电铸；工件的电解法接合；所用的装置 |
| ------C25D21/00 | 电解镀覆用电解槽的维护或操作方法 |
| --------C25D21/12 | .工艺控制或调节 |