基本信息:
- 专利标题： 感活性光線性又は感放射線性組成物、感活性光線性又は感放射線性組成物の製造方法、パターン形成方法、及び電子デバイスの製造方法
- 专利标题（英）：JPWO2017163816A1 - The actinic ray-sensitive or radiation-sensitive composition, a method of manufacturing a sensitive or radiation-sensitive composition, a pattern forming method, and a manufacturing method of an electronic device
- 申请号：JP2017008450 申请日：2017-03-03
- 公开(公告)号：JPWO2017163816A1 公开(公告)日：2018-12-13
- 发明人： 二橋 亘 , 椿 英明
- 申请人： 富士フイルム株式会社
- 申请人地址： 東京都港区西麻布2丁目26番30号
- 专利权人： 富士フイルム株式会社
- 当前专利权人： 富士フイルム株式会社
- 当前专利权人地址： 東京都港区西麻布2丁目26番30号
- 代理人： 特許業務法人航栄特許事務所
- 优先权： JP2016060954 2016-03-24
- 主分类号： G03F7/26
- IPC分类号： G03F7/26 ; G03F7/004
In the formation of the pattern of ultra-fine, a method of manufacturing a superior resolution, and little variation in actinic ray-sensitive or radiation-sensitive composition of the sensitivity, the actinic ray-sensitive or radiation-sensitive composition, the actinic ray pattern forming method using the gender or radiation-sensitive composition, and a method for producing an electronic device. The actinic ray-sensitive or radiation-sensitive composition, and, sensitive or radiation-sensitive composition obtained by the production method of the actinic ray-sensitive or radiation-sensitive composition, cation and the ligand with a metal atom It contains the value of σ represented by the formula (1) is 2.2 or less. The pattern formation method and a manufacturing method of an electronic device, using the actinic ray-sensitive or radiation-sensitive composition.
公开/授权文献:
- JP6862846B2 浸漬ノズル内の溶鋼流量測定方法及び装置、連続鋳造用タンディッシュ並びに複層鋳片の連続鋳造方法 公开/授权日：2021-04-21