基本信息:
- 专利标题： 層間絶縁膜形成用感光性樹脂組成物、層間絶縁膜及び層間絶縁膜の形成方法
- 专利标题（英）：Forming an interlayer insulating film for a photosensitive resin composition, a method of forming the interlayer insulating film and the interlayer insulating film
- 申请号：JP2016545432 申请日：2015-08-12
- 公开(公告)号：JPWO2016031580A1 公开(公告)日：2017-06-08
- 发明人： 和英 鵜野 , 和英 鵜野
- 申请人： 東京応化工業株式会社
- 申请人地址： 神奈川県川崎市中原区中丸子150番地
- 专利权人： 東京応化工業株式会社
- 当前专利权人： 東京応化工業株式会社
- 当前专利权人地址： 神奈川県川崎市中原区中丸子150番地
- 代理人： 棚井 澄雄; 志賀 正武; 松本 将尚; 宮本 龍; 飯田 雅人
- 优先权： JP2014173129 2014-08-27
- 主分类号： G03F7/004
- IPC分类号： G03F7/004 ; G03F7/023 ; G03F7/075 ; G03F7/20 ; G03F7/40
摘要：
アルカリ可溶性樹脂(A)と、感光剤(B)と、加熱により酸を発生する熱酸発生剤(T)と、シランカップリング剤(C)と、を含有する層間絶縁膜形成用感光性樹脂組成物であって、前記アルカリ可溶性樹脂(A)は、下記一般式(a−1)で表される構成単位(A1)又は脂環式エポキシ基含有単位(A3)を有する層間絶縁膜形成用感光性樹脂組成物。一般式(a−1)中、Rは水素原子又はメチル基を表し、Ra01は水素原子、又は水酸基を有する有機基を表す。[化1]
摘要（英）：
An alkali-soluble resin (A), the photosensitive agent (B), and a thermal acid generator which generates an acid by heating (T), a silane coupling agent (C) and, an interlayer insulating film for forming a photosensitive resin containing a composition, the alkali-soluble resin (a), an interlayer dielectric film for forming which has the following general formula (a-1) represented by the structural unit (A1) or an alicyclic epoxy group-containing units (A3) The photosensitive resin composition. In formula (a-1), R represents a hydrogen atom or a methyl group, Ra
01 represents an organic group having a hydrogen atom, or a hydroxyl group.
[Formula 1]
公开/授权文献:
- JP6774876B2 層間絶縁膜形成用感光性樹脂組成物、層間絶縁膜及び層間絶縁膜の形成方法 公开/授权日：2020-10-28