基本信息:
- 专利标题： パターン形成方法、レジストパターン、電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイス
- 专利标题（英）：Pattern forming method, the resist pattern, a manufacturing method of an electronic device, and an electronic device
- 申请号：JP2016538176 申请日：2015-05-13
- 公开(公告)号：JPWO2016017232A1 公开(公告)日：2017-06-01
- 发明人： 徹 土橋 , 徹 土橋 , 亘 二橋 , 亘 二橋 , 英明 椿 , 英明 椿
- 申请人： 富士フイルム株式会社
- 申请人地址： 東京都港区西麻布2丁目26番30号
- 专利权人： 富士フイルム株式会社
- 当前专利权人： 富士フイルム株式会社
- 当前专利权人地址： 東京都港区西麻布2丁目26番30号
- 代理人： 渡辺 望稔; 三和 晴子; 伊東 秀明; 三橋 史生
- 优先权： JP2014155946 2014-07-31
- 主分类号： G03F7/32
- IPC分类号： G03F7/32 ; C08F212/04 ; C08F220/26 ; G03F7/038 ; G03F7/039 ; G03F7/20
摘要：
パターン形成方法は、フェノール性水酸基を有する繰り返し単位、及び、酸の作用により分解してカルボキシル基を生じる基を有する繰り返し単位を有する樹脂(A)、並びに、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物(B)を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を用いて基板上に膜を形成する工程と、上記膜を露光する工程と、上記露光した膜を、有機溶剤を含む現像液を用いて現像する工程と、をこの順番で有し、上記有機溶剤を含む現像液が、炭素原子数が8以上かつヘテロ原子数が2以下の有機溶剤を50質量%以上含有する。
摘要（英）：
Patterning method, the repeating unit having a phenolic hydroxyl group, and a repeating unit having a decomposition to groups resulting carboxyl group by the action of an acid (A), as well as generating an acid upon irradiation with actinic rays or radiation forming a film on a substrate using a compound (B) the actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition containing the, a step of exposing the film, the film the exposure, contains an organic solvent includes a step of performing development with a developer, a in this order, developer containing the organic solvent, the number of carbon atoms of 8 or more and the number of heteroatoms are contained 2 following organic solvents at least 50 mass%.
公开/授权文献:
- JP6345250B2 パターン形成方法、レジストパターン、電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイス 公开/授权日：2018-06-20
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
| G | 物理 |
| --G03 | 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术 |
| ----G03F | 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备 |
| ------G03F7/00 | 图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备 |
| --------G03F7/16 | .涂层处理及其设备 |
| ----------G03F7/30 | ..用液体消除影像的 |
| ------------G03F7/32 | ...所用的液体成分，例如，显影剂 |