基本信息:
- 专利标题： 露光装置
- 专利标题（英）：Exposure device
- 专利标题（中）：曝光装置
- 申请号：JP2015527290 申请日：2014-07-14
- 公开(公告)号：JPWO2015008731A1 公开(公告)日：2017-03-02
- 发明人： 貴士 小野瀬 , 弘司 柿崎 , 理 若林 , 章義 鈴木
- 申请人： ギガフォトン株式会社
- 申请人地址： 栃木県小山市大字横倉新田400番地
- 专利权人： ギガフォトン株式会社
- 当前专利权人： ギガフォトン株式会社
- 当前专利权人地址： 栃木県小山市大字横倉新田400番地
- 代理人： 保坂 延寿
- 优先权： JPPCT/JP2013/069554 2013-07-18
- 主分类号： G03F7/20
- IPC分类号： G03F7/20 ; H01S3/00
摘要：
出射されるレーザ光の波長を変化させることのできるレーザ光源と、前記レーザ光が照射されることにより回折光を発生させるパターンが形成されているマスクと、前記マスクと基板との距離に対応して、前記レーザ光源より出射されるレーザ光の波長の制御を行う制御部と、を備え、前記レーザ光源より出射された前記レーザ光を前記マスクに照射し、前記基板の表面においてプロキシミティ露光してもよい。
摘要（中）：
一种激光光源，其能够改变所述发射的激光束的波长，以及掩模图案，以产生衍射光由激光束形成的照射，用掩模和基板之间的距离 碲，其特征在于，用于控制从激光光源发出的激光的波长，包括从所述激光光源照射在掩模出射的，激光束的控制单元，和在衬底的表面上的接近式曝光 它可能是。
摘要（英）：
A laser light source capable of changing the wavelength of the emitted laser beam, a mask pattern for generating the diffracted light is formed by the laser beam is irradiated, corresponds to the distance between the mask and the substrate on the control unit for controlling the wavelength of the laser light emitted from the laser light source, it comprises a, the laser beam emitted from the laser light source is irradiated to the mask, and proximity exposure on the surface of the substrate it may be.
公开/授权文献:
- JP6378180B2 露光装置 公开/授权日：2018-08-22