基本信息:
- 专利标题： アクリル酸エステル誘導体およびその製造方法、中間体およびその製造方法、高分子化合物、フォトレジスト組成物
- 专利标题（英）：Acrylic acid ester derivative and a method for producing the same, intermediates and processes for their preparation, polymer compound, photoresist composition
- 专利标题（中）：丙烯酸酯衍生物和其制备方法，中间体和它们的制备方法，聚合物化合物，光致抗蚀剂组合物
- 申请号：JP2014502221 申请日：2013-02-25
- 公开(公告)号：JPWO2013129342A1 公开(公告)日：2015-07-30
- 发明人： 明展 竹田 , 明展 竹田 , 隆司 福本 , 隆司 福本 , 中山 修 , 修 中山
- 申请人： 株式会社クラレ
- 申请人地址： 岡山県倉敷市酒津1621番地
- 专利权人： 株式会社クラレ
- 当前专利权人： 株式会社クラレ
- 当前专利权人地址： 岡山県倉敷市酒津1621番地
- 代理人： 大谷 保; 片岡 誠
- 优先权： JP2012039630 2012-02-27 JP2012234163 2012-10-23
- 主分类号： C07D275/06
- IPC分类号： C07D275/06 ; C08F20/38 ; G03F7/039
摘要：
半導体用フォトレジスト組成物に含有させる高分子化合物の構成単位としたときに、LWRなどのリソグラフィー特性に優れるアクリル酸エステル誘導体を提供する。具体的には、下記一般式(1)で示されるアクリル酸エステル誘導体である。さらに、該アクリル酸エステル誘導体の中間体、その製造方法、該アクリル酸エステル誘導体を構成単位として含有する高分子化合物、および該高分子化合物を含む半導体用フォトレジスト組成物を提供する。(式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11、R12、R13、m、xおよびyは、明細書本文で定義のとおりである。)
摘要（中）：
当聚合物化合物的构成单元，以被包含在半导体光刻胶组合物，以提供丙烯酸酯衍生物具有优良的光刻特性，例如LWR。 具体地，丙烯酸酯衍生物由下述通式（1）表示。 进一步提供中间的丙烯酸酯衍生物，用于制造含有作为构成单元的丙烯酸酯衍生物的聚合物化合物的方法，以及包括聚合物化合物的半导体光刻胶组合物的。 （式中，R1，R2，R3，R4，R5，R6，R7，R8，R9，R10，R11，R12，R13，M，X和Y如说明书中所定义的文本）。
摘要（英）：
When the constituent units of the polymer compound to be contained in the semiconductor photoresist composition, to provide an acrylic acid ester derivative having excellent lithography properties such as LWR. Specifically, an acrylic acid ester derivative represented by the following general formula (1). Further provided intermediate of the acrylic acid ester derivative, a manufacturing method thereof, a polymer compound containing a constitutional unit the acrylic acid ester derivative, and a semiconductor photoresist composition comprising a polymer compound.
(Wherein, R 1, R 2, R 3, R 4, R 5, R 6, R 7, R 8, R 9, R 10, R 11, R 12, R 13, m, x and y, it is as defined in the specification text.)
公开/授权文献:
- JP6078526B2 アクリル酸エステル誘導体およびその製造方法、中間体およびその製造方法、高分子化合物、フォトレジスト組成物 公开/授权日：2017-02-08
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
| C | 化学；冶金 |
| --C07 | 有机化学 |
| ----C07D | 杂环化合物 |
| ------C07D275/00 | 杂环化合物，含有1-2-噻唑或氢化1,2-噻唑环 |
| --------C07D275/02 | .不和其他环系稠合 |
| ----------C07D275/06 | ..有杂原子直接连在环硫原子上 |