基本信息:
- 专利标题： ガス精製装置及びその制御方法、並びに水素製造装置
- 申请号：JP2019151454 申请日：2019-08-21
- 公开(公告)号：JP6937087B2 公开(公告)日：2021-09-22
- 发明人： 江口 晃平 , 櫛 拓人
- 申请人： 東京瓦斯株式会社
- 申请人地址： 東京都港区海岸1丁目5番20号
- 专利权人： 東京瓦斯株式会社
- 当前专利权人： 東京瓦斯株式会社
- 当前专利权人地址： 東京都港区海岸1丁目5番20号
- 代理人： 特許業務法人太陽国際特許事務所
- 主分类号： C01B3/38
- IPC分类号： C01B3/38 ; C01B3/56 ; B01D53/047
公开/授权文献:
- JP2021030134A ガス精製装置及びその制御方法、並びに水素製造装置 公开/授权日：2021-03-01
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
| C | 化学；冶金 |
| --C01 | 无机化学 |
| ----C01B | 非金属元素；其化合物 |
| ------C01B3/00 | 氢；含氢混合气；从含氢混合气中分离氢（用物理方法分离气体入B01D）；氢的净化 |
| --------C01B3/02 | .氢或含氢混合气的生产 |
| ----------C01B3/06 | ..用含正电性氢的无机化合物，如水、酸、碱、氨与无机还原剂的反应 |
| ------------C01B3/34 | ...用烃类与气化剂的反应 |
| --------------C01B3/38 | ....使用催化剂 |