基本信息:
- 专利标题： 反射型マスクブランク、および反射型マスク
- 申请号：JP2017156756 申请日：2017-08-15
- 公开(公告)号：JP6863169B2 公开(公告)日：2021-04-21
- 发明人： 河原 弘朋 , 羽根川 博 , 宇野 俊之
- 申请人： AGC株式会社
- 申请人地址： 東京都千代田区丸の内一丁目5番1号
- 专利权人： AGC株式会社
- 当前专利权人： AGC株式会社
- 当前专利权人地址： 東京都千代田区丸の内一丁目5番1号
- 代理人： 伊東 秀明; 竹本 洋一
- 主分类号： G03F7/20
- IPC分类号： G03F7/20 ; G03F1/24
公开/授权文献:
- JP2019035848A 反射型マスクブランク、および反射型マスク 公开/授权日：2019-03-07