基本信息:
- 专利标题： 層間絶縁膜形成用感光性樹脂組成物、層間絶縁膜及び層間絶縁膜の形成方法
- 申请号：JP2016545432 申请日：2015-08-12
- 公开(公告)号：JP6774876B2 公开(公告)日：2020-10-28
- 发明人： 鵜野 和英
- 申请人： 東京応化工業株式会社
- 申请人地址： 神奈川県川崎市中原区中丸子150番地
- 专利权人： 東京応化工業株式会社
- 当前专利权人： 東京応化工業株式会社
- 当前专利权人地址： 神奈川県川崎市中原区中丸子150番地
- 代理人： 棚井 澄雄; 志賀 正武; 松本 将尚; 宮本 龍; 飯田 雅人
- 优先权： JP2014173129 2014-08-27
- 国际申请： JP2015072855 JP 2015-08-12
- 国际公布： WO2016031580 JP 2016-03-03
- 主分类号： G03F7/023
- IPC分类号： G03F7/023 ; G03F7/075 ; G03F7/40 ; G03F7/20 ; G03F7/004
公开/授权文献:
- JPWO2016031580A1 層間絶縁膜形成用感光性樹脂組成物、層間絶縁膜及び層間絶縁膜の形成方法 公开/授权日：2017-06-08