基本信息:
- 专利标题: 新規なN−[(ピラジニルオキシ)プロパニル]ベンズアミド
- 申请号:JP2018553868 申请日:2017-04-07
- 公开(公告)号:JP6643501B2 公开(公告)日:2020-02-12
- 发明人: リーター ドリス , フェッラーラ マルコ , ハイネ ニクラス , レッセル ウータ , ニコルソン ジャネット レイチェル , ペクセック アントン
- 申请人: ベーリンガー インゲルハイム インターナショナル ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング
- 申请人地址: ドイツ連邦共和国 55216 インゲルハイム アム ライン ビンガー シュトラーセ 173
- 专利权人: ベーリンガー インゲルハイム インターナショナル ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング
- 当前专利权人: ベーリンガー インゲルハイム インターナショナル ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング
- 当前专利权人地址: ドイツ連邦共和国 55216 インゲルハイム アム ライン ビンガー シュトラーセ 173
- 代理人: 田中 伸一郎; 弟子丸 健; ▲吉▼田 和彦; 箱田 篤; 浅井 賢治; 山崎 一夫; 市川 さつき; 服部 博信
- 优先权: EP16165522.0 2016-04-15
- 国际申请: EP2017058314 JP 2017-04-07
- 国际公布: WO2017178339 JP 2017-10-19
- 主分类号: C07D413/12
- IPC分类号: C07D413/12 ; A61K31/506 ; A61K31/497 ; A61P25/18 ; C07D403/12
公开/授权文献:
- JP2019511535A 新規なN−[(ピラジニルオキシ)プロパニル]ベンズアミド 公开/授权日:2019-04-25
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
C | 化学;冶金 |
--C07 | 有机化学 |
----C07D | 杂环化合物 |
------C07D413/00 | 杂环化合物,含两个或更多个杂环,至少有1个环有氮原子和氧原子作为仅有的杂环原子 |
--------C07D413/02 | .含两个杂环 |
----------C07D413/12 | ..被含有杂原子的链作为键链连接的 |