基本信息:

• 专利标题： フォトリソグラフィマスクまたはウェハの欠陥を分析するためのデバイスおよび方法
• 申请号：JP2017077274 申请日：2017-04-10
• 公开(公告)号：JP6643273B2 公开(公告)日：2020-02-12
• 发明人： ガブリエル バラリア , クリストフ バウアー , クラウス エディンガー , トルステン ホフマン , ミヒャエル ブダッハ
• 申请人： カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー
• 申请人地址： ドイツ連邦共和国、73447 オーバーコッヘン、ルドルフ・エーバー・シュトラーセ 2
• 专利权人： カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー
• 当前专利权人： カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー
• 当前专利权人地址： ドイツ連邦共和国、73447 オーバーコッヘン、ルドルフ・エーバー・シュトラーセ 2
• 代理人： 田中 伸一郎; 弟子丸 健; 大塚 文昭; 西島 孝喜; 須田 洋之; 近藤 直樹
• 优先权： DE102016205941.6 2016-04-08
• 主分类号： G01N1/28
• IPC分类号： G01N1/28 ; G01Q30/20 ; G01Q30/04 ; H01J37/28 ; H01J37/305 ; G01Q30/02

公开/授权文献:

• JP2017201304A  フォトリソグラフィマスクまたはウェハの欠陥を分析するためのデバイスおよび方法 公开/授权日：2017-11-09

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