基本信息:
- 专利标题： 半導体装置
- 申请号：JP2016237723 申请日：2016-12-07
- 公开(公告)号：JP6614116B2 公开(公告)日：2019-12-04
- 发明人： 樽見 浩幸 , 小山 和博 , 陰 泳信 , 星 真一
- 申请人： 株式会社デンソー
- 申请人地址： 愛知県刈谷市昭和町1丁目1番地
- 专利权人： 株式会社デンソー
- 当前专利权人： 株式会社デンソー
- 当前专利权人地址： 愛知県刈谷市昭和町1丁目1番地
- 代理人： 特許業務法人ゆうあい特許事務所
- 优先权： JP2016103352 2016-05-24
- 主分类号： H01L21/338
- IPC分类号： H01L21/338 ; H01L29/808 ; H01L29/812 ; H01L29/778 ; H01L21/336 ; H01L29/78 ; H01L21/337
公开/授权文献:
- JP2017212425A 半導体装置 公开/授权日：2017-11-30
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
| H | 电学 |
| --H01 | 基本电气元件 |
| ----H01L | 半导体器件；其他类目未包含的电固体器件 |
| ------H01L21/00 | 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备 |
| --------H01L21/02 | .半导体器件或其部件的制造或处理 |
| ----------H01L21/027 | ..未在H01L21/18或H01L21/34组中包含的为进一步的光刻工艺在半导体之上制作掩膜 |
| ------------H01L21/18 | ...器件有由周期表第Ⅳ族元素或含有/不含有杂质的AⅢBⅤ族化合物构成的半导体，如掺杂材料 |
| --------------H01L21/26 | ....用波或粒子辐射轰击的 |
| ----------------H01L21/335 | .....场效应晶体管 |
| ------------------H01L21/338 | ......带有肖特基栅的 |