基本信息:

• 专利标题： ステレオリソグラフィ方法および組成物
• 专利标题（英）：JP6423960B2 - Stereo lithography methods and compositions
• 申请号：JP2017519656 申请日：2015-10-30
• 公开(公告)号：JP6423960B2 公开(公告)日：2018-11-14
• 发明人： ハギワラ,ツネオ , イケタニ,サトシ
• 申请人： ディーダブリューエス エス.アール.エル.
• 申请人地址： イタリア国 ヴィチェンツァ,36016 シエネ,21,ヴィア デラ メカニカ
• 专利权人： ディーダブリューエス エス.アール.エル.
• 当前专利权人： ディーダブリューエス エス.アール.エル.
• 当前专利权人地址： イタリア国 ヴィチェンツァ,36016 シエネ,21,ヴィア デラ メカニカ
• 代理人： 辻 良子; 市川 寛奈
• 优先权： ITVI2014A000285 2014-11-04
• 国际申请： IB2015058385 JP 2015-10-30
• 国际公布： WO2016071811 JP 2016-05-12
• 主分类号： A61K6/027
• IPC分类号： A61K6/027 ; A61K6/04 ; A61C13/087 ; B33Y10/00 ; B33Y70/00 ; B33Y80/00 ; B29C64/124 ; C08F290/06 ; A61K6/083

公开/授权文献:

• JP2018501191A  ステレオリソグラフィ方法および組成物 公开/授权日：2018-01-18

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