基本信息:
- 专利标题: X線撮像システムおよびX線撮像方法
- 专利标题(英):JP6411775B2 - X-ray imaging system and x-ray imaging method
- 申请号:JP2014111868 申请日:2014-05-30
- 公开(公告)号:JP6411775B2 公开(公告)日:2018-10-24
- 发明人: 定岡 紀行 , 名雲 靖 , 上村 博
- 申请人: 株式会社日立製作所
- 申请人地址: 東京都千代田区丸の内一丁目6番6号
- 专利权人: 株式会社日立製作所
- 当前专利权人: 株式会社日立製作所
- 当前专利权人地址: 東京都千代田区丸の内一丁目6番6号
- 代理人: 戸田 裕二
- 主分类号: G01N23/083
- IPC分类号: G01N23/083 ; G01N23/18 ; G01N23/04
公开/授权文献:
- JP2015225053A X線撮像システムおよびX線撮像方法 公开/授权日:2015-12-14
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
G | 物理 |
--G01 | 测量;测试 |
----G01N | 借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料 |
------G01N23/00 | 利用未包括在G01N21/00或G01N22/00组内的波或粒子辐射来测试或分析材料,例如X射线、中子 |
--------G01N23/02 | .通过使辐射透过材料 |
----------G01N23/04 | ..并形成图像 |
------------G01N23/08 | ...利用电检测装置 |
--------------G01N23/083 | ....辐射是X射线 |