基本信息:
- 专利标题: 半導体デバイス検査システムにおけるアポダイゼーションのためのシステム
- 专利标题(英):JP6305350B2 - System for apodization in the semiconductor device inspection system
- 申请号:JP2014556743 申请日:2013-02-08
- 公开(公告)号:JP6305350B2 公开(公告)日:2018-04-04
- 发明人: サリバン ジェイミー , ジャニック ゲイリー , ツイ スティーブ , ウィルク ディーター , ショート スティーブ , ハウリラウ ミハイル , ジャーン チアーン , チェン グレース , ダネン ロバート , マートノ スウィピン , ヴェルマ ショビット , ツァイ ウエンジエン , ブレンダー マイアー
- 申请人: ケーエルエー−テンカー コーポレイション
- 申请人地址: アメリカ合衆国、95035、カリフォルニア州、ミルピタス、ワン テクノロジイ ドライブ
- 专利权人: ケーエルエー−テンカー コーポレイション
- 当前专利权人: ケーエルエー−テンカー コーポレイション
- 当前专利权人地址: アメリカ合衆国、95035、カリフォルニア州、ミルピタス、ワン テクノロジイ ドライブ
- 代理人: 特許業務法人YKI国際特許事務所
- 优先权: US61/597,459 2012-02-10 US13/760,829 2013-02-06
- 国际申请: US2013025396 JP 2013-02-08
- 国际公布: WO2013119992 JP 2013-08-15
- 主分类号: G01N21/84
- IPC分类号: G01N21/84 ; G01N21/88 ; H01L21/66 ; G01N21/956
公开/授权文献:
- JP2015508165A 半導体デバイス検査システムにおけるアポダイゼーションのためのシステムおよび方法 公开/授权日:2015-03-16
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
G | 物理 |
--G01 | 测量;测试 |
----G01N | 借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料 |
------G01N21/00 | 利用光学手段,即利用红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料 |
--------G01N21/84 | .专用于特殊应用的系统 |