基本信息:
- 专利标题： 光分解性材料、基板及びそのパターニング方法
- 专利标题（英）：JP6305342B2 - Photodegradable material, the substrate and the patterning method
- 申请号：JP2014540912 申请日：2013-10-11
- 公开(公告)号：JP6305342B2 公开(公告)日：2018-04-04
- 发明人： 岸岡 高広 , 木村 茂雄 , 広井 佳臣 , 臼井 友輝 , 北野 博巳 , 中路 正 , 源明 誠
- 申请人： 国立大学法人富山大学 , 日産化学工業株式会社
- 申请人地址： 富山県富山市五福3190
- 专利权人： 国立大学法人富山大学,日産化学工業株式会社
- 当前专利权人： 国立大学法人富山大学,日産化学工業株式会社
- 当前专利权人地址： 富山県富山市五福3190
- 代理人： 特許業務法人はなぶさ特許商標事務所
- 优先权： JP2012226380 2012-10-11
- 国际申请： JP2013077804 JP 2013-10-11
- 国际公布： WO2014058061 JP 2014-04-17
- 主分类号： C12M1/00
- IPC分类号： C12M1/00 ; C08F20/36 ; G03F7/004 ; G03F7/09 ; G03F7/075
公开/授权文献:
- JPWO2014058061A1 光分解性材料、基板及びそのパターニング方法 公开/授权日：2016-09-05