基本信息:
- 专利标题： 転写用マスクの製造方法
- 专利标题（英）：JP6266919B2 - Method of manufacturing a transfer mask
- 申请号：JP2013169572 申请日：2013-08-19
- 公开(公告)号：JP6266919B2 公开(公告)日：2018-01-24
- 发明人： 宍戸 博明 , 野澤 順
- 申请人： HOYA株式会社
- 申请人地址： 東京都新宿区西新宿六丁目10番1号
- 专利权人： HOYA株式会社
- 当前专利权人： HOYA株式会社
- 当前专利权人地址： 東京都新宿区西新宿六丁目10番1号
- 代理人： 大塚 武史
- 主分类号： G03F1/26
- IPC分类号： G03F1/26 ; G03F1/54 ; H01L21/3065 ; G03F1/80
公开/授权文献:
- JP2015038564A 転写用マスクの製造方法 公开/授权日：2015-02-26
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
| G | 物理 |
| --G03 | 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术 |
| ----G03F | 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备 |
| ------G03F1/00 | 用于图纹面的照相制版的原版的制备 |
| --------G03F1/26 | .相移掩膜 |