基本信息:

• 专利标题： 露光装置
• 专利标题（英）：JP6266422B2 - Exposure apparatus
• 申请号：JP2014090330 申请日：2014-04-24
• 公开(公告)号：JP6266422B2 公开(公告)日：2018-01-24
• 发明人： 古堂 将広 , 小島 隆宏
• 申请人： 株式会社東芝 ,  東芝テック株式会社
• 申请人地址： 東京都港区芝浦一丁目1番1号
• 专利权人： 株式会社東芝,東芝テック株式会社
• 当前专利权人： 株式会社東芝,東芝テック株式会社
• 当前专利权人地址： 東京都港区芝浦一丁目1番1号
• 代理人： 特許業務法人 天城国際特許事務所
• 主分类号： G02B26/12
• IPC分类号： G02B26/12 ; B41J2/47 ; H04N1/113 ; G02B26/10

公开/授权文献:

• JP2015210325A  露光装置 公开/授权日：2015-11-24

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