基本信息:
- 专利标题： 溶剤現像リソグラフィープロセス用有機下層膜形成組成物を用いた半導体装置の製造方法
- 专利标题（英）：JP6226142B2 - The method of manufacturing a semiconductor device using a solvent developing lithographic process organic underlayer film forming composition
- 申请号：JP2014523671 申请日：2013-06-21
- 公开(公告)号：JP6226142B2 公开(公告)日：2017-11-08
- 发明人： 染谷 安信 , 武田 諭 , 橋本 圭祐 , 新城 徹也 , 坂本 力丸
- 申请人： 日産化学工業株式会社
- 申请人地址： 東京都千代田区神田錦町3丁目7番地1
- 专利权人： 日産化学工業株式会社
- 当前专利权人： 日産化学工業株式会社
- 当前专利权人地址： 東京都千代田区神田錦町3丁目7番地1
- 代理人： 特許業務法人はなぶさ特許商標事務所
- 优先权： JP2012148877 2012-07-02
- 国际申请： JP2013067087 JP 2013-06-21
- 国际公布： WO2014007079 JP 2014-01-09
- 主分类号： G03F7/11
- IPC分类号： G03F7/11 ; H01L21/027 ; C08F20/58 ; C08F20/28 ; H01L21/3065
公开/授权文献:
- JPWO2014007079A1 溶剤現像リソグラフィープロセス用有機下層膜形成組成物を用いた半導体装置の製造方法 公开/授权日：2016-06-02