基本信息:
- 专利标题： 結晶解析装置、複合荷電粒子ビーム装置及び結晶解析方法
- 专利标题（英）：Crystal analysis equipment, composite charged particle beam apparatus and crystal analysis method
- 专利标题（中）：晶体分析器复合带电粒子射线装置和晶体学方法
- 申请号：JP2012204612 申请日：2012-09-18
- 公开(公告)号：JP6085132B2 公开(公告)日：2017-02-22
- 发明人： 満 欣 , 藤井 利昭
- 申请人： 株式会社日立ハイテクサイエンス
- 申请人地址： 東京都港区西新橋一丁目24番14号
- 专利权人： 株式会社日立ハイテクサイエンス
- 当前专利权人： 株式会社日立ハイテクサイエンス
- 当前专利权人地址： 東京都港区西新橋一丁目24番14号
- 代理人： 特許業務法人栄光特許事務所; 濱田 百合子; 橋本 公秀; 吉田 将明; 久原 健太郎; 内野 則彰; 木村 信行
- 主分类号： G01N23/20
- IPC分类号： G01N23/20
公开/授权文献:
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
| G | 物理 |
| --G01 | 测量；测试 |
| ----G01N | 借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料 |
| ------G01N23/00 | 利用未包括在G01N21/00或G01N22/00组内的波或粒子辐射来测试或分析材料，例如X射线、中子 |
| --------G01N23/20 | .利用辐射的衍射，例如，用于测试晶体结构；利用辐射的反射 |