基本信息:

• 专利标题： 表面ナノスケール・アキシャル・フォトニックデバイスを製造する方法
• 专利标题（英）：Method for producing a surface nano-scale axial photonic devices
• 专利标题（中）：制造表面的纳米级的轴向光子器件的方法
• 申请号：JP2013198520 申请日：2013-09-25
• 公开(公告)号：JP6066876B2 公开(公告)日：2017-01-25
• 发明人： ミックハイル サメットスキー
• 申请人： オーエフエス ファイテル,エルエルシー
• 申请人地址： アメリカ合衆国 30071 ジョージア,ノアクロス,ノースイースト エクスプレスウェイ 2000
• 专利权人： オーエフエス ファイテル,エルエルシー
• 当前专利权人： オーエフエス ファイテル,エルエルシー
• 当前专利权人地址： アメリカ合衆国 30071 ジョージア,ノアクロス,ノースイースト エクスプレスウェイ 2000
• 代理人： 岡部 讓
• 优先权： US61/705,258 2012-09-25 US14/035,354 2013-09-24
• 主分类号： B82Y20/00
• IPC分类号： B82Y20/00 ; B82Y35/00 ; B82Y40/00 ; G02B6/02 ; G02B6/26 ; G02B6/10

公开/授权文献:

• JP2014067036A  Method of manufacturing surface nanoscale axial photonic device 公开/授权日：2014-04-17

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