化合物、樹脂、リソグラフィー用下層膜形成材料、リソグラフィー用下層膜形成用組成物、リソグラフィー用下層膜、パターン形成方法、及び、化合物又は樹脂の精製方法

专利标题：化合物、樹脂、リソグラフィー用下層膜形成材料、リソグラフィー用下層膜形成用組成物、リソグラフィー用下層膜、パターン形成方法、及び、化合物又は樹脂の精製方法
专利标题（英）：Compounds, resin, the lower the film-forming material for lithography, underlayer film forming composition for lithography, underlying film for lithography, a pattern forming method, and a compound or resin purification method
专利标题（中）：化合物，树脂，用于光刻的底涂层的材料，光刻下层膜形成用组合物，用于光刻中，图案形成方法，下层膜，以及化合物或树脂纯化方法
申请号：JP2016542787 申请日：2016-03-09
公开(公告)号：JP6028959B1 公开(公告)日：2016-11-24
发明人：岡田佳奈 , 堀内淳矢 , 牧野嶋高史 , 越後雅敏
申请人：三菱瓦斯化学株式会社
申请人地址：東京都千代田区丸の内2丁目5番2号
专利权人：三菱瓦斯化学株式会社
当前专利权人：三菱瓦斯化学株式会社
当前专利权人地址：東京都千代田区丸の内2丁目5番2号
代理人：稲葉良幸; 大貫敏史; 内藤和彦
优先权： JP2015050731 2015-03-13
国际申请： JP2016057438 JP 2016-03-09
主分类号： C07D405/04
IPC分类号： C07D405/04 ; C08G61/12 ; G03F7/11 ; C07D209/86

摘要：

下記式(1)で表される、化合物。【化1】 (式(1)中、Xは、各々独立して、酸素原子、硫黄原子又は無架橋であることを示し、R 1 は、各々独立して、水素原子、ハロゲン基、ニトロ基、アミノ基、水酸基、炭素原子数1〜30のアルキル基、炭素原子数2〜30のアルケニル基、炭素原子数6〜40のアリール基、及びそれらの組み合わせからなる群より選択され、ここで、該アルキル基、該アルケニル基及び該アリール基は、エーテル結合、ケトン結合又はエステル結合を含んでいてもよく、R 2 は、各々独立して、炭素数1〜30の直鎖状、分岐状若しくは環状のアルキル基、炭素数6〜40のアリール基、炭素数2〜30のアルケニル基、チオール基又は水酸基であり、ここで、R 2 の少なくとも1つは水酸基又はチオール基を含む基であり、mは、各々独立して、1〜7の整数であり、pは各々独立して0又は1であり、qは各々独立して0〜4の整数であり、nは0又は1である。)

摘要（中）：

由下式（1）表示的化合物。 ## STR1（式（1）中，X独立地表示氧原子，表示硫原子或未交联的，R 1各自独立地为氢原子，卤素基团，硝基，氨基，羟基，具有1至30个碳原子，具有2至30个碳原子，6至40个碳原子的芳基链烯基的烷基，并且是从选自它们的组合，其中，所述烷基，烯基和芳基，醚键，可含有酮或埃斯特·邦德时，R 2，独立地，1-30直链，支链或环状烷基，具有6至40个碳原子，具有2至30个碳原子，巯基或羟基链烯基，其中，一组包含至少一个羟基或R 2中的硫醇基的芳基，m是的1〜7各自独立的整数，p各自独立地为0或1 在那里，q各自独立地为0〜4整数，n是0或1）

摘要（英）：

Represented by the following formula (1), compounds.
[Formula 1]
(In the formula (1), X each independently, an oxygen atom indicates that a sulfur atom or an uncrosslinked, R ¹ is each independently a hydrogen atom, a halogen group, a nitro group, an amino group, a hydroxyl group, an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 30 carbon atoms, an aryl group having a carbon number of 6-40, and is selected from the group consisting of a combination thereof, wherein the alkyl group, the alkenyl group and the aryl group may contain an ether bond, ketone bond or an ester bond, R ² is each independently a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 30 carbon atoms , an aryl group having 6 to 40 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 30 carbon atoms, a thiol group or a hydroxyl group, wherein at least one of R ² is a group containing a hydroxyl group or a thiol group, m, respectively independently, an integer from 1 to 7, p-is 0 or 1 each independently, q is each independently 0 to 4 integer, n is 0 or 1.)

JPWO2016147989A1 化合物、樹脂、リソグラフィー用下層膜形成材料、リソグラフィー用下層膜形成用組成物、リソグラフィー用下層膜、パターン形成方法、及び、化合物又は樹脂の精製方法公开/授权日：2017-04-27

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C	化学；冶金
--C07	有机化学
----C07D	杂环化合物（高分子化合物入C08）
------C07D405/00	杂环化合物，含有1个或多个以氧原子作为仅有的杂环原子的环，且含有1个或多个以氮原子作为仅有的杂环原子的环
--------C07D405/02	.含有两个杂环
----------C07D405/04	..被环原子-环原子的键直接连接的

发明专利 JP6028959B1 化合物、樹脂、リソグラフィー用下層膜形成材料、リソグラフィー用下層膜形成用組成物、リソグラフィー用下層膜、パターン形成方法、及び、化合物又は樹脂の精製方法 有权

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