基本信息:
- 专利标题： 酸化ケイ素及び酸窒化ケイ素膜、それらの形成方法、並びに化学気相成長用組成物
- 专利标题（英）：Silicon oxide and silicon oxynitride film, a method for their formation, as well as chemical vapor deposition for composition
- 专利标题（中）：氧化硅和氮氧化硅膜，它们的形成的方法，以及化学汽相组合物
- 申请号：JP2015106450 申请日：2015-05-26
- 公开(公告)号：JP5996722B2 公开(公告)日：2016-09-21
- 发明人： ハーレッシュ スリダンダム , マンチャオ シャオ , シンジャン レイ , トーマス リチャード ガフネイ
- 申请人： エア プロダクツ アンド ケミカルズ インコーポレイテッド , AIR PRODUCTS AND CHEMICALS INCORPORATED
- 申请人地址： アメリカ合衆国 ペンシルヴェニア アレンタウン ハミルトン ブールヴァード 7201
- 专利权人： エア プロダクツ アンド ケミカルズ インコーポレイテッド,AIR PRODUCTS AND CHEMICALS INCORPORATED
- 当前专利权人： エア プロダクツ アンド ケミカルズ インコーポレイテッド,AIR PRODUCTS AND CHEMICALS INCORPORATED
- 当前专利权人地址： アメリカ合衆国 ペンシルヴェニア アレンタウン ハミルトン ブールヴァード 7201
- 代理人： 正林 真之
- 优先权： US11/439,554 2006-05-23
- 主分类号： C23C16/42
- IPC分类号： C23C16/42 ; C23C16/455 ; H01L21/316
公开/授权文献:
- JP2015159335A 酸化ケイ素及び酸窒化ケイ素膜、それらの形成方法、並びに化学気相成長用組成物 公开/授权日：2015-09-03