基本信息:

• 专利标题： 電子ビーム発生装置、電子ビーム照射装置、電子ビーム露光装置、および製造方法
• 专利标题（英）：Electron beam generation device, an electron beam irradiation device, an electron beam exposure apparatus, and a method of manufacturing
• 专利标题（中）：电子束发生器，电子束照射装置，电子束曝光装置，以及制造方法
• 申请号：JP2012027488 申请日：2012-02-10
• 公开(公告)号：JP5994271B2 公开(公告)日：2016-09-21
• 发明人： 江刺 正喜 , 池上 尚克 , 小島 明
• 申请人： 国立大学法人東北大学 ,  国立大学法人東京農工大学 ,  株式会社クレステック
• 申请人地址： 宮城県仙台市青葉区片平二丁目1番1号
• 专利权人： 国立大学法人東北大学,国立大学法人東京農工大学,株式会社クレステック
• 当前专利权人： 国立大学法人東北大学,国立大学法人東京農工大学,株式会社クレステック
• 当前专利权人地址： 宮城県仙台市青葉区片平二丁目1番1号
• 代理人： 龍華国際特許業務法人
• 主分类号： H01J37/063
• IPC分类号： H01J37/063 ; H01J37/073 ; H01J37/305 ; H01J1/312 ; H01J9/02 ; H01J37/06

公开/授权文献:

• JP2013164981A  Electron beam generator, electron beam radiation device, electron beam exposure device, and manufacturing method 公开/授权日：2013-08-22

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