基本信息:
- 专利标题： リソグラフィ装置およびデバイス製造方法
- 专利标题（英）：Lithographic apparatus and device manufacturing method
- 申请号：JP2012048439 申请日：2012-03-05
- 公开(公告)号：JP5989360B2 公开(公告)日：2016-09-07
- 发明人： ニーンフイス,ハン−クワン , クイパーズ,マルティヌス,アグネス,ウィレム , レバシア,レオン,マーティン , ヴァン スホート,ジャン,ベルナルド,プレヘルムス , ヴァン デ ヴィホヴァー,ユリ,ヨハネス,ガブリエル , ボズニィ,オレグ,ヴィアチェスラヴォヴィッチ , ヤンセン,フランシスクス,ヨハネス,ヨセフ , フィリップス,ダニー,マリア,ヒューベルタス , ミランダ,マルシオ,アレクサンドル,カノ , ガラクショノフ,オレクシー , ヴァン ボクホヴェン,ロウレンティウス,ヨハネス,アドリアヌス , テン カテ,ニコラース , ランジャン,マニシュ , リプマ,アルベルト,ピーター , バル,クルサット , シュミッツ,ロジャー,ヴィルヘルムス,アントニウス,ヘンリクス , ルルー,アラン,ルイス,クロード
- 申请人： エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.
- 申请人地址： オランダ国 ヴェルトホーフェン 5500 エーエイチ, ピー.オー.ボックス 324
- 专利权人： エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.
- 当前专利权人： エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.
- 当前专利权人地址： オランダ国 ヴェルトホーフェン 5500 エーエイチ, ピー.オー.ボックス 324
- 代理人： 稲葉 良幸; 大貫 敏史
- 优先权： US61/450,392 2011-03-08 US61/489,524 2011-05-24
- 主分类号： G03F7/20
- IPC分类号： G03F7/20
公开/授权文献:
- JP2012191206A Lithographic apparatus and device manufacturing method 公开/授权日：2012-10-04