基本信息:

• 专利标题： 微細パターニング用表面化学処理装置
• 专利标题（英）：Surface chemical processing equipment for fine patterning
• 专利标题（中）：的精细图案的表面的化学处理装置
• 申请号：JP2015500038 申请日：2013-02-14
• 公开(公告)号：JP5956053B2 公开(公告)日：2016-07-20
• 发明人： 内山 一美 , 中嶋 秀 , 楊 明 , 曽 湖烈 , 菅原 義之 , 西本 尚弘
• 申请人： 株式会社島津製作所 ,  公立大学法人首都大学東京 ,  学校法人早稲田大学
• 申请人地址： 京都府京都市中京区西ノ京桑原町1番地
• 专利权人： 株式会社島津製作所,公立大学法人首都大学東京,学校法人早稲田大学
• 当前专利权人： 株式会社島津製作所,公立大学法人首都大学東京,学校法人早稲田大学
• 当前专利权人地址： 京都府京都市中京区西ノ京桑原町1番地
• 代理人： 鹿島 義雄
• 国际申请： JP2013053492 JP 2013-02-14
• 国际公布： WO2014125591 JP 2014-08-21
• 主分类号： B05B15/04
• IPC分类号： B05B15/04 ; B01J19/00 ; B05C5/02

公开/授权文献:

• JPWO2014125591A1  微細パターニング用表面化学処理装置 公开/授权日：2017-02-02

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