基本信息:
- 专利标题： 光パターン照射方法、ハーフトーン位相シフトマスク及びハーフトーン位相シフトマスクブランク
- 专利标题（英）：Light pattern irradiation method, halftone phase shift masks and halftone phase shift mask blank
- 专利标题（中）：光图案照射方法，半色调相移掩模和半色调相移掩模坯料
- 申请号：JP2011253743 申请日：2011-11-21
- 公开(公告)号：JP5879951B2 公开(公告)日：2016-03-08
- 发明人： 吉川 博樹 , 稲月 判臣 , 小板橋 龍二 , 金子 英雄 , 小嶋 洋介 , 原口 崇 , 廣瀬 智一
- 申请人： 信越化学工業株式会社 , 凸版印刷株式会社
- 申请人地址： 東京都千代田区大手町二丁目6番1号
- 专利权人： 信越化学工業株式会社,凸版印刷株式会社
- 当前专利权人： 信越化学工業株式会社,凸版印刷株式会社
- 当前专利权人地址： 東京都千代田区大手町二丁目6番1号
- 代理人： 小島 隆司; 重松 沙織; 小林 克成; 石川 武史
- 主分类号： G03F1/74
- IPC分类号： G03F1/74 ; G03F1/32
公开/授权文献:
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
| G | 物理 |
| --G03 | 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术 |
| ----G03F | 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备 |
| ------G03F1/00 | 用于图纹面的照相制版的原版的制备 |
| --------G03F1/68 | .未包含在G03F1/20至G03F1/50组中的制备工艺 |
| ----------G03F1/72 | ..掩膜缺陷的修复或校正 |
| ------------G03F1/74 | ...通过带电粒束 |