基本信息:
- 专利标题: アクティブ発振防止付き複合半導体デバイス
- 专利标题(英):Complex semiconductor devices with active oscillation prevention
- 专利标题(中):与有源振荡防止复合半导体器件
- 申请号:JP2012059460 申请日:2012-03-15
- 公开(公告)号:JP5848171B2 公开(公告)日:2016-01-27
- 发明人: ブラミアン トニー , ジェイソン チャン
- 申请人: インターナショナル レクティフィアー コーポレイション
- 申请人地址: アメリカ合衆国 カリフォルニア州 90245 エル セガンド ノース セプルヴェーダ ブールバード 101
- 专利权人: インターナショナル レクティフィアー コーポレイション
- 当前专利权人: インターナショナル レクティフィアー コーポレイション
- 当前专利权人地址: アメリカ合衆国 カリフォルニア州 90245 エル セガンド ノース セプルヴェーダ ブールバード 101
- 代理人: 杉村 憲司; 福尾 誠; 大倉 昭人; 荒木 淳
- 优先权: US61/454,743 2011-03-21 US13/417,143 2012-03-09
- 主分类号: H01L21/338
- IPC分类号: H01L21/338 ; H01L29/778 ; H01L29/812 ; H01L21/8234 ; H01L27/088 ; H01L27/095
公开/授权文献:
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
H | 电学 |
--H01 | 基本电气元件 |
----H01L | 半导体器件;其他类目未包含的电固体器件 |
------H01L21/00 | 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备 |
--------H01L21/02 | .半导体器件或其部件的制造或处理 |
----------H01L21/027 | ..未在H01L21/18或H01L21/34组中包含的为进一步的光刻工艺在半导体之上制作掩膜 |
------------H01L21/18 | ...器件有由周期表第Ⅳ族元素或含有/不含有杂质的AⅢBⅤ族化合物构成的半导体,如掺杂材料 |
--------------H01L21/26 | ....用波或粒子辐射轰击的 |
----------------H01L21/335 | .....场效应晶体管 |
------------------H01L21/338 | ......带有肖特基栅的 |