基本信息:
- 专利标题： レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物
- 专利标题（英）：Resist composition, a method of forming a resist pattern, compound
- 专利标题（中）：抗蚀剂组合物，抗蚀剂图案形成方法中，化合物
- 申请号：JP2011273768 申请日：2011-12-14
- 公开(公告)号：JP5846889B2 公开(公告)日：2016-01-20
- 发明人： 小室 嘉崇 , 内海 義之 , 川上 晃也 , 波戸 利明
- 申请人： 東京応化工業株式会社
- 申请人地址： 神奈川県川崎市中原区中丸子150番地
- 专利权人： 東京応化工業株式会社
- 当前专利权人： 東京応化工業株式会社
- 当前专利权人地址： 神奈川県川崎市中原区中丸子150番地
- 代理人： 棚井 澄雄; 志賀 正武; 鈴木 三義; 五十嵐 光永
- 主分类号： G03F7/039
- IPC分类号： G03F7/039 ; C07C59/13 ; C07C69/753 ; C07C381/12 ; G03F7/004