基本信息:

• 专利标题： 18F標識化合物の製造方法及びその方法に用いる高分子化合物
• 专利标题（英）：The polymer compound used in the production method and a method of 18f labeled compound
• 专利标题（中）：在制造方法中使用的高分子化合物和18 F-标记的化合物的方法
• 申请号：JP2011553844 申请日：2011-02-08
• 公开(公告)号：JP5835801B2 公开(公告)日：2015-12-24
• 发明人： 高橋 孝志 , 田中 浩士 , 中田 力
• 申请人： 国立大学法人東京工業大学 ,  国立大学法人 新潟大学
• 申请人地址： 東京都目黒区大岡山2丁目12番1号
• 专利权人： 国立大学法人東京工業大学,国立大学法人 新潟大学
• 当前专利权人： 国立大学法人東京工業大学,国立大学法人 新潟大学
• 当前专利权人地址： 東京都目黒区大岡山2丁目12番1号
• 代理人： 野村 健一; 間山 世津子
• 优先权： JP2010029295 2010-02-12
• 国际申请： JP2011052630 JP 2011-02-08
• 国际公布： WO2011099480 JP 2011-08-18
• 主分类号： A61K51/00
• IPC分类号： A61K51/00 ; C07B61/00 ; C08F236/20 ; C07H5/02

公开/授权文献:

• JPWO2011099480A1  １８Ｆ標識化合物の製造方法及びその方法に用いる高分子化合物 公开/授权日：2013-06-13

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