基本信息:
- 专利标题： ナノ粒子を製造するための低圧高周波パルス・プラズマ反応器システム
- 专利标题（英）：Low pressure high frequency pulsed plasma reactor system for producing nanoparticles
- 专利标题（中）：低压高频用于生产纳米颗粒脉冲等离子体反应器系统
- 申请号：JP2011526130 申请日：2009-09-01
- 公开(公告)号：JP5773438B2 公开(公告)日：2015-09-02
- 发明人： ケーシー、ジェイムズ、エイ. , シャマミアン、ワスゲン、エイ.
- 申请人： ダウ コーニング コーポレーション , DOW CORNING CORPORATION
- 申请人地址： アメリカ合衆国 48686−0994 ミシガン州 ミッドランド ウェスト サルツバーグ ロード 2200
- 专利权人： ダウ コーニング コーポレーション,DOW CORNING CORPORATION
- 当前专利权人： ダウ コーニング コーポレーション,DOW CORNING CORPORATION
- 当前专利权人地址： アメリカ合衆国 48686−0994 ミシガン州 ミッドランド ウェスト サルツバーグ ロード 2200
- 代理人： 特許業務法人浅村特許事務所
- 优先权： US61/093,865 2008-09-03
- 国际申请： US2009055587 JP 2009-09-01
- 国际公布： WO2010027959 JP 2010-03-11
- 主分类号： H01J37/32
- IPC分类号： H01J37/32 ; H05H1/24 ; H05H1/46 ; B82Y40/00 ; C23C16/515