基本信息:

• 专利标题： 水酸化インジウムの製造方法
• 专利标题（英）：Method for producing indium hydroxide
• 专利标题（中）：制造的氢氧化铟的方法
• 申请号：JP2011162813 申请日：2011-07-26
• 公开(公告)号：JP5711063B2 公开(公告)日：2015-04-30
• 发明人： 新藤 裕一朗 , 竹本 幸一 , 古仲 充之
• 申请人： JX日鉱日石金属株式会社
• 申请人地址： 東京都千代田区大手町二丁目6番3号
• 专利权人： JX日鉱日石金属株式会社
• 当前专利权人： JX日鉱日石金属株式会社
• 当前专利权人地址： 東京都千代田区大手町二丁目6番3号
• 代理人： 小越 勇; 小越 一輝
• 主分类号： C25B11/04
• IPC分类号： C25B11/04 ; C25B11/10 ; C25B15/08 ; C25B1/00

公开/授权文献:

• JP2013023761A  Method for producing indium hydroxide 公开/授权日：2013-02-04

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