发明专利
JP5556773B2 Naphthalene derivatives and a method for producing the same, resist underlayer film material, the resist underlayer film forming method and pattern forming method
有权
基本信息:
- 专利标题： Naphthalene derivatives and a method for producing the same, resist underlayer film material, the resist underlayer film forming method and pattern forming method
- 申请号：JP2011190622 申请日：2011-09-01
- 公开(公告)号：JP5556773B2 公开(公告)日：2014-07-23
- 发明人： 剛 金生 , 大佑 郡 , 勝也 竹村 , 武 渡辺 , 勤 荻原
- 申请人： 信越化学工業株式会社
- 专利权人： 信越化学工業株式会社
- 当前专利权人： 信越化学工業株式会社
- 优先权： JP2010202660 2010-09-10
- 主分类号： C08G8/02
- IPC分类号： C08G8/02 ; G03F7/11 ; H01L21/027
公开/授权文献:
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
| C | 化学；冶金 |
| --C08 | 有机高分子化合物；其制备或化学加工；以其为基料的组合物 |
| ----C08G | 用碳—碳不饱和键以外的反应得到的高分子化合物 |
| ------C08G8/00 | 醛或酮只与酚的缩聚物 |
| --------C08G8/02 | .酮的 |